Una nueva familia de Nitruros Metálicos de Transición (metales de transición 5d con nitrógeno, NMT) han sido producidos utilizando Sistemas de Deposición Asistidos por Plasma. En este trabajo se utilizó el sistema de Deposición Física en Fase de Vapor Asistida por Plasma (PAPVD) en arco pulsado para crecer películas delgadas de Nitruro de Oro (AuN). Las energías de enlace de 398.1 eV, 84.7 eV y 88.36 eV, para el espectro angosto de N1s y Au-4f respectivamente fueron determinadas mediante la técnica de Espectroscopia Fotoelectronica de Rayos X (XPS). Adicionalmente mediante Difracción de Rayos X (XRD) se observaron modificaciones en las líneas de difracción Bragg del Au, las cuales podrían ser atribuidas a nuevas fases producidas por la inclusión de átomos de nitrógeno en la red cúbica fcc del Au. Mediante la técnica de Microscopía de Fuerza Atómica (AFM) se constató el carácter granular de las muestras y se determinaron los tamaños de grano, adicionalmente utilizando la técnica de Microscopia de Efecto Túnel (STM) se observó el carácter conductivo de estas películas.A new family of Transition Metallic Nitrides (5d Transition Metal with Nitrogen, NMT) has been produced by Plasma Assisted System. In this work an arc pulsed - Plasma Assisted Physical Vapor Deposition system (PAPVD) to grow Gold Nitride thin films (AuN) was used. The binding energies of 398.1 eV, 84.7 eV and 88.36 eV, to N1s and Au4f nar- row spectrum respectively were determined trough X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS). Additionally using X- Ray Diffraction (XRD) a widening of the Au Bragg diffraction lines was observed, which could be attributed to new phases produced for inclution of nitrogen atom inside Au lattice. Using Atomic Force Microscopy (AFM) the granular character of the samples was verified and the grain sizes were determined. Additionally the conductive character of these samples was observed by Scanning Tunnel Microscopy (STM).