Atribución-NoComercial 4.0 InternacionalCapote Rodríguez, GilVargas Barrera, César Orlando2019-07-022019-07-022017-12-05https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/62114Resumen. En este trabajo se realizó la deposición de películas delgadas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PECVD. Las películas fueron depositadas utilizando plasma de metano y variando la tensión de autopolarización aplicada al cátodo durante el crecimiento de las películas. El sustrato que se utilizó para depositar las películas fue silicio. Las películas fueron caracterizadas teniendo en cuenta las principales propiedades microestructurales y mecánicas. Los estudios llevados a cabo permitieron obtener los parámetros óptimos para la deposición de las películas de carbono amorfo hidrogenado empleando este sistema de deposición.Abstract. In this work, deposition of amorphous hydrogenated carbon (a-C:H) thin films using the pulsed-DC PECVD technique was carried out. The films were deposited using methane plasma and varying the self-bias voltage applied to the cathode during the growth of the films. Silicon substrates were used to deposit the films. The films were characterized taking into account the main microstructural and mechanical properties. These studies allowed obtaining the optimum parameters for the amorphous hydrogenated carbon films deposition using this deposition system.application/pdfspaDerechos reservados - Universidad Nacional de Colombiahttp://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/53 Física / Physics54 Química y ciencias afines / Chemistry6 Tecnología (ciencias aplicadas) / Technology66 Ingeniería química y Tecnologías relacionadas/ Chemical engineeringTrabajo de grado - Maestríahttp://bdigital.unal.edu.co/61022/info:eu-repo/semantics/openAccessDLCRecubrimientosSustrato de silicioMetanoPelículas de carbono amorfo hidrogenadoPECVDMicroestructuraPropiedades mecánicasCoatingsSilicon substrateMethaneAmorphous hydrogenated carbon filmsMicrostructureMechanical properties