Caracterización estructural y morfológica de películas de zno crecidas sobre sustratos de vidrio

Abstract

Utilizando la técnica PAPVD (Plasma Assisted Physical Vapor Deposition) por arco pulsado se crecieron películas delgadas de ZnO sobre sustratos de vidrio. Las películas fueron crecidas variando el voltaje de la descarga, la presión del gas y el número de descargas. Las propiedades estructurales tales como: cristalinidad, microestructura y rugosidad superficial fueron investigadas por Difracción de Rayos X, Microscopía Electrónica de Barrido en Ambiente y Microscopía de Fuerza Atómica. Se encontró que el material depositado es efectivamente ZnO, con una estructura cristalina hexagonal, una orientación preferencial en la dirección (002), alta textura cristalográfica, parámetros de red promedio de a = 3,250495 Ã… y c =5,21608 Ã…, espesores con valores del orden de los cientos de nanómetros, tamaño de grano promedio del orden de 0,529 μm y rugosidad promedio de 98,6 Ã…, además, se detectó la presencia de irregularidades, grietas y microgotas en la superficie de las mismas.