Propiedades ópticas de silicio policristalino depositado a diferentes frecuencias

Abstract

El presente trabajo recoge el estudio de propiedades las ópticas de películas delgadas de silicio policristalino, con el propósito de ser usadas como capa absorbente en celdas solares, este material ha generado gran interés en el desarrollo de nuevos dispositivos opto-electrónicos, en donde una de las mayores ventajas sobre el silicio amorfo es su estabilidad frente a la exposición a la luz y su baja temperatura de deposición. Para tal propósito se midieran películas delgadas de silicio policristalino, depositadas por la técnica PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) las constantes ópticas: el gap (Eg), índice de refracción (n), coeficiente de absorción (a) y el espesor (d) de las muestras. Estos constantes se obtendrán a partir de mediciones de transmitancia en función de la longitud de onda, utilizando el método de Swanepoel.

Abstract. This paper presents the study of optical properties of films you thin polycrystalline silicon , with the purpose of being used as a layer absorber in solar cells. This material has generated great interest in the development of new opto- electronic devices , where one of the major advantages over the amorphous silicon is its stability against Prolonged exposure to light and low deposition temperature .