Películas de DLC producidas por pecvd utilizando intercapas de Tix-Siy, AlxTiy y WX-Tiy, sobre sustratos de aceros AISI 316-L, AISI H13 y aleaciones de Ti6Al4V, depositadas por sputtering con magnetrón

Abstract

In this research, it was possible to sinter by the rf plasma erosion technique, individual films of TiSi, TiAl and TiW on AISI H13, AISI 316l and Ti6Al4V alloy substrates, with thicknesses of 100 nm, 200 nm and 300 nm, with in order to determine its influence on adhesion on diamond like carbon coatings “DLC” (a-C:H). The DLC coatings were sintered by the chemical vapor phase “CVD” deposition technique with pulsed D.C source using a novel configuration which is to use the active screen, using three precursor gases: methane, acetylene and hexane. In order to determine if any of these had greater adherence. The TiSi, TiAl and TiW films, their morphology was characterized by scanning electron microscopy and their chemical composition by X-ray energy dispersion spectrometry, as its crystalline structure by X-ray diffraction in grazing mode, the energies were determined of bond between substrates and different coatings by X-ray photoelectron spectroscopy “XPS”. The morphology of DLC were characterized by Raman spectroscopy and their hardness was determined by the nanohardness test. Adhesion was measured by the scratch test increasing the load until reaching the critical load Lc and by the indentation test under the VDI 3198 standard. The diffractograms showed that the TiSi and TiAl films did not show any characteristic peak, therefore, cannot be determined if the interlayer grew amorphous or crystalline. The adhesion results showed that the methane-grown hydrogenated amorphous carbon films presented a critical load of 10 N, therefore, the growth of the hydrogenated amorphous carbon films was modified using another interlayer of (a-Si:H) on the TiSi, TiAl and TiW coatings to have the substrate/TiSi/a-Si:H/DLC and substrate/TiAl/a-Si:H/DLC configuration, increasing its critical load to 25 N, the hardness of the DLC film was of 25.3 GPa and a modulus of elasticity of 199 GPa. Finally, the corrosion resistance was increased in the substrate /TiAl/a-Si:H/DLC coatings.

En esta investigación se consiguió sinterizar por la técnica de erosión por plasma r.f, películas individuales de TiSi, TiAl y TiW sobre sustratos de acero AISI H13, AISI 316l y aleaciones de Ti6Al4V, con espesores de 100 nm, 200 nm y 300 nm, con el fin de determinar su influencia en la adherencia en los recubrimientos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H). Los recubrimientos de carbono amorfo hidrogenado se sinterizaron por la técnica deposición química en fase vapor con fuente D.C pulsada utilizando una novedosa configuración la cual es usar la pantalla activa, usando tres gases precursores: metano, acetileno y hexano, con el fin de determinar con cuales condiciones los recubrimientos presentaba mayor adherencia. En las películas de TiSi, TiAl y TiW, se caracterizó su morfología por microscopía electrónica de barrido y su composición química por espectrometría de dispersión de energía de rayos X, así como su estructura cristalina por difracción de rayos X en modo haz rasante. Además, se determinó las energías de enlace entre los sustratos y los diferentes recubrimientos por espectroscopía de fotoelectrones de rayos X (XPS). La morfología de las películas de carbono amorfo hidrogenado se caracterizó por espectroscopía Raman y se determinó su dureza por el ensayo de nanoindentación. La adherencia se midió por el ensayo de rayado aumentando la carga hasta llegar a la carga crítica Lc y por el ensayo de indentación bajo la norma VDI 3198. Los difractogramas mostraron que las películas de TiSi y TiAl no presentan ningún pico característico, por lo tanto, no se pudo determinar si las películas crecieron amorfas o cristalinas. Los resultados de adherencia mostraron que las películas de carbono amorfo hidrogenado crecidos sobre las intercapas con el gas metano presentaron una carga crítica de aproximadamente 10 N. Por tal motivo, se procedió a modificar el crecimiento de los recubrimientos de carbono amorfo hidrogenado, usando una intercapa adicional de a-Si:H sobre las intercapas de TiSi, TiAl y TiW para tener la configuración sustrato/TiSi/a-Si:H/DLC y sustrato/TiAl/a-Si:H/DLC. Estas nuevas intercapas permitieron aumentar considerablemente la adherencia de los recubrimientos, obteniendo valores de carga crítica de hasta 25 N, mientras que la dureza del recubrimiento de DLC alcanzó 25,3 GPa y un módulo de elasticidad de 199 GPa. Por último, se aumentó la resistencia a la corrosión en los recubrimientos de sustrato/TiAl/a-Si:H/DLC.