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Crecimiento y caracterización de películas delgadas de La0.7Ba0.3MnO3 sobre sustratos de SrTiO3 por la Técnica Magnetrón Sputtering

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Resumen

Resumen: Películas de La0.7Ba0.3MnO3 (LBMO) fueron depositadas en los sustratos de SrTiO3 (100) (STO) y BaTiO3 (100) (BTO) por la técnica DC-sputtering en una mezcla de gases O2/Ar. El target usado en este proceso fue sinterizado por la técnica hidrotermal usando como mineralizador el hidróxido de potasio (KOH) que favorece a la cristalinidad y formación del composito (LBMO). La morfología y cristalinidad a temperatura ambiente determinadas por AFM y X-ray reflectividad (XRR) and θ–2 θ X-ray difracción (XRD) y (microscopía electrónica de barrido) SEM, mostraron que las películas crecen epitaxialmente con los parámetros de red dependientes del espesor, el contenido de oxígeno y los tiempos de crecimiento. Las medidas magnéticas y de transporte revelan una transición metal-aislante y una transición magnética ferro-paramagnéticas. Esta dependencia esta correlacionada con los espesores de las películas y con la distorsión del ángulo Mn-O-Mn, debido al estrés estructural producido por el desajuste en los paramentos de red entre la película y el sustrato.
Abstract: La0.7Ba0.3MnO3 ( LBMO ) films were deposited on substrates of SrTiO3 ( 100 ) (STO) and BaTiO3 ( 100 ) ( BTO ) by DC - sputtering technique in a mixture gas of O2/Ar . The target used in this process was sintered by hydrothermal technique using as mineralizer potassium hydroxide (KOH ) which favors the formation of composite crystallinity and (LBMO ). The morphology and crystallinity at room temperature determined by AFM and X –ray reflectivity ( XRR ) and θ -2 θ X -ray diffraction (XRD ) and ( SEM ) SEM showed that the films grow epitaxially with the network parameters dependent on the thickness , the oxygen content and the growth time . The transport and magnetic measurements reveal a metal -insulator transition and magnetic ferro - paramagnetic transition. This dependence is correlated with the thickness of the films and the distortion angle Mn - O -Mn due to structural stress caused by the mismatch in the network walls between the film and the substrate.

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