En este trabajo se estudiaron monocapas de ZrC crecidas por la técnica PAPVD por arco pulsado, variando la temperatura del sustrato. Como material de aporte se utilizó circonio con una pureza de 99.93%. Las películas se crecieron sobre sustratos de acero inoxidable 304. Como atmósfera de trabajo se utilizó gas metano (CH4). Los recubrimientos se caracterizaron mediante difracción de rayos X para determinar la estructura cristalina, las orientaciones preferenciales, el tamaño del cristalito y la microtensión. Con XPS se tomaron espectros amplios para identificar los elementos presentes y espectros angostos para determinar los enlaces químicos, además se obtuvieron espectros angostos en función del tiempo de etching para determinar las especies químicas de la monocapa en la superficie. Se utilizó el SPM en modo AFM para medir el tamaño de grano, rugosidad raíz cuadrática media (Rrms) y espesor de las películas / Abstract: In this work ZrC monolayers grown by PAPVD pulsed arc system varying the substrate temperature were studied. Zirconium 99.93% of purity was used like contribution material. The films were grown on stainless steel 304. Like work atmosphere was used methane (CH4). The coatings were characterized by means of X-ray diffraction to determine the crystalline structure, preferential orientations, crystallite size and the microstrain. With XPS survey spectra were obtain in order to identify the present elements and narrow spectra were taken for identify the chemical bonds. Also, narrow spectra were taken like function of the etching time for determines the chemical species of the monolayer in the surface. SPM in AFM mode was used for measure the grain size, roughness root means square Rrms and thickness of the films.