Se depositaron películas de (TiAlV)N sobre sustratos de acero 304 y H13 por medio de la técnica PAPVD por arco pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango desde temperatura ambiente hasta 300°C. Los recubrimientos fueron analizados por medio de las técnicas de espectroscopía de Fotoelectrones de Rayos X (XPS) para observar su composición química, Difracción de Rayos X (XRD) para analizar la estructura cristalina, parámetro de red, tamaño de cristalito, microstress y coeficiente de textura cristalográfica, Microscopía Electrónica de Barrido (SEM) para determinar su morfología, espectroscopia de Energía Dispersiva (EDS) para observar su composición química elemental con respecto a la influencia del cambio de la temperatura del sustrato en sus propiedades; además, se utilizo la Teoría de Densidad Funcional (DFT), para observar la distribución de cargas, los orbitales moleculares, la densidad de estados electrónicos, el potencial electrostático producido y calcular algunas magnitudes físicas con respecto a la variación de elementos sustituyentes en la celda unitaria / Abstract: (TiAlV)N films were deposited on 304 stainless steal and H13 stainless steal by PAPVD pulsed arc technique, varying substrate temperature in a room temperature to 300°C range. The coating were analyzed by X Ray Photoelectrons Spectroscopy (XPS) to observe the chemical composition, X Ray Diffraction (XRD) to analyze the crystalline structure, lattice parameter, crystallite size, microstress and the crystallographic texture coefficient, Scanning Electron Microscopy (SEM) to determinate the morphology, Energy Dispersive Spectroscopy (EDS) to observe the elemental chemical composition in function of the influence of the substrate temperature variations in the properties. Besides, Density Functional Theory (DFT) was used to observe the charges distribution, molecular orbitals, electron total density and produced electrostatic potential to calculate some physical magnitudes in function of sustituyents in the unitary lattice.